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胡正明与王宁国获选入硅谷工程协会名人堂_乐橙手机官网

编辑:乐橙官网 来源:乐橙官网 创发布时间:2021-03-01阅读78077次
  本文摘要:硅谷工程协会(siliconvalleyengineeringcouncil ) 22日举行了本年度殿堂(HallofFame )颁奖仪式,今年3名获奖者是胡正明和王国两个中国人,刷新了记录,意义非常重大更特别是,两人都来自台湾,之后在伯克利增加进修的同期出身,读书时经常聚集在一起,王宁国说:“台湾和伯克利有很多优秀的工程师! ”。

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硅谷工程协会(siliconvalleyengineeringcouncil ) 22日举行了本年度殿堂(HallofFame )颁奖仪式,今年3名获奖者是胡正明和王国两个中国人,刷新了记录,意义非常重大更特别是,两人都来自台湾,之后在伯克利增加进修的同期出身,读书时经常聚集在一起,王宁国说:“台湾和伯克利有很多优秀的工程师! ”。胡正明(右)和王宁国(左)入选硅谷工程协会名人堂(中为协会要角StanleyMeyer )名人堂,今年除胡正明和王宁国外,另一位是ARES公司执行长史都华兹(RichardJStuart )。从90年代到现在,进入殿堂的人是HP创始人惠勒(WilliamHewlett )和帕克(DavidPackard )。

英特尔创始人摩尔、罗伯特噪音、应用材料公司前社长丹梅丹苹果的创始人沃兹尼亚克(SteveWozniak )等。今年只有5名中国人当选,包括亲弟弟伯克利增大前校长田长霖、伯克利增大前工学院院长葛王佐(ErnestS.Kuh )、林氏研究小组(LamResearch )创始人林杰屏。在北京、台湾出生长大的胡正明毕业台大电机系,伯克利增大博士。胡正明曾经有台湾积体电路制造第一个技术幅度,现在是伯克利教授,是半导体领域的先驱级人物,在鳍型场效应晶体管(FinFET )技术中突破获奖。

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芬奇晶体管是40年来半导体领域最重要的变革,摩尔定律要求从2011年开始沿袭。胡正明去年获得了国家技术和创造奖牌,奥巴马总统举行了颁奖仪式。

几个月前,他还获得了中华民国蔡英文总统发行工业研究院士和第十届潘文渊奖,两奖也是极为指导性的科学技术大奖,以前的获奖者说话的人包括张忠谋等重量级科学技术人员。“我很荣幸”胡正解释说,殿堂是非常光荣的奖项,包含的领域很普遍,不仅在电子方面,“在被提名之前我不在乎”。

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另一位进入殿堂的王宁国是中原大学学士、伯克利增大博士,曾任应用材料继续执行副总裁、华虹集团执行长、中芯国际集团总裁兼执行长等职。王宁国也说,获奖者很开心。“(我自己)没有执着于名声,但想成为工程师”。

他在演说中建议工程师必须下定决心。工程师不是非常简单和缓慢地取得胜利的人,而是处理难题,“当别人退出的时候,我们会寻找答案。”。另外,根据贝尔研究所和应用材料等多年的经验,我深深体会到无视不同意见和与有不同背景的人合作是最重要的。


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